Matériaux High-k dans les mémoires non-volatiles avancées - Intégration de matériaux à forte permittivité électrique dans les mémoires non-volatiles pour les générations sub-45nm - Grand Format

Les mémoires non-volatiles Flash sont aujourd'hui un élément clé du développement de l'électronique portable demandant de plus en plus de capacité de stockage à bas coût. Afin d'assurer son maintien pour les années à venir, il est nécessaire de poursuivre l'amélioration de cette technologie. Ainsi, l'intégration de matériaux à forte permittivité électrique (appelés : High-k) et l'utilisation de mémoires à couche de piégeage discret sont de plus en plus envisagées.
Le travail de cette thèse s'inscrit dans ce contexte. Il comprend tout d'abord une étude électrique de matériaux High-k (Hf02, HfAIO, A12O3, HfSiON) en vue de leur intégration dans les mémoires non-volatiles. Les empilements les plus prometteurs ont ensuite été intégrés dans des mémoires à nanocristaux de silicium ou à couche de piégeage nitrure. Les performances électriques ont été reliées aux propriétés matériaux des couches utilisées.
L'analyse des résultats électriques ainsi que la compréhension physique des mécanismes mis en jeux ont été permises par une étude de modélisation. En particulier, un modèle complet de mémoire à couche de piégeage discret a été développé.